Область наук:
  • нанотехнології
  • Рік видавництва 2000
    Журнал: Известия Південного федерального університету. Технічні науки

    Наукова стаття на тему 'Математичне моделювання іонно-променевої модікаціі матеріалів'

    Текст наукової роботи на тему «Математичне моделювання іонно-променевої модікаціі матеріалів»

    ?Ю.Ф.Блінов, П.В.Серба, Д.А.Сеченов МАТЕМАТИЧНЕ МОДЕЛЮВАННЯ іоннолучевая МОДІКАЦІІ МАТЕРІАЛІВ

    Використання іонної обробки матеріалів дозволяє модифікувати електричні, оптичні і механічні властивості поверхні твердих тіл. Основним фізичним процесом, який впливає на зміну поверхневих властивостей матеріалів є міграція атомів під дією іонного опромінення. Процес міграції атомів описується кінетичним рівнянням

    д = | Ц (х, д) сг д /) yoд - с, (х, /) | Ь, (х, ддёд + і д + ^ ук д (1)

    V V до

    де с (х, t) - відносна концентрація атомів 1 -ого сорту на глибині х, в момент часу t, цх, д) - оператор атомного зміщення, і -швидкість зростання плівки на поверхні твердого тіла, V - оператор релаксації кристалічної решітки. При розрахунку функції атомного зміщення необхідно враховувати дію як первинного потоку налітають іонів, так і вторинного потоку атомів мішені, що утворився в результаті каскаду зіткнень. Граничні умови для рівняння (1) мають вигляд

    Б - + і, з, = - с, (2) дх 11 N

    де 5 - коефіцієнт розпилення і характеризують баланс потоків атомів розпилюються з поверхні і мігруючих до поверхні зразка з обсягу твердого тіла. Рівняння (1) може бути вирішено з використанням чисельних методів.


    Завантажити оригінал статті:

    Завантажити